CNV perdonó a Techint (se cumple el acuerdo)

El acuerdo entre el Gobierno y Techint tuvo ayer un nuevo capítulo, preparatorio para la fumata final del próximo 10 de noviembre. Ese día debutarán como integrantes del directorio de Siderar los tres hombres que representarán al Ejecutivo en la conducción de la siderúrgica, y, de no mediar conflictos de último momento, habrá coincidencias sobre capitalizaciones, inversiones y opiniones conjuntas sobre cómo manejarse en los próximos años. Ayer, la Comisión Nacional de Valores (CNV) sólo «apercibió» a Siderar por la negativa a recibir a los tres nuevos directores designados por la ANSES; evitando cualquier sanción que complique la conducción de la empresa.

La decisión del organismo que dirige Alejandro Vanoli aleja cualquier peligro de condicionar la cotización de la empresa en la Bolsa, y simplemente explica que la negativa original de la empresa a reconocer la nueva integración del directorio y la invalidez de las decisiones corporativas sin el voto de los tres hombres del Gobierno pudo ocasionar problemas superiores.

Según la CNV, fue la decisión de menor nivel de gravedad de las que podría haber aplicado a la compañía del grupo Techint. Si el conflicto entre las dos partes hubiera continuado en el tiempo, desde el organismo que regula las operaciones de las empresas que cotizan en Bolsa se analizaban acciones más complejas, como sanciones efectivas, económicas y reales, que hubieran derivado después en una cuestión judicial entre el Gobierno y el grupo industrial.

El conflicto entre el Ejecutivo y Techint surgió luego de la decisión del Gobierno de acceder a los lugares en los directorios de las empresas en las que tenían acciones procedentes de la nacionalización de las AFJP a través del decreto de necesidad y urgencia 441. La ANSES heredó un 25,97% de las acciones que pertenecían a diferentes administradoras privadas de fondos de pensión, y, a través del DNU, eliminó el límite del 5% de derecho a voto que tenían las AFJP para nombrar miembros en los directorios.